Технология химического осаждения пленок халькогенидов металлов
Технология химического осаждения пленок халькогенидов металлов
Авторы: Маскаева Л. Н., Марков В. Ф.
Издательство: Уральский федеральный университет
ISBN 978-5-7996-2411-8; 2018 г.
Кол-во страниц: 136
Предварительный просмотр:
О книге:
В учебном пособии изложены теоретический материал и алгоритмы выполнения курсовых работ, предлагаемых студентам по ряду профильных дисциплин, связанных с прогнозированием условий и проведением процесса осаждения полупроводниковых пленок на основе халькогенидов металлов и других сопутствующих фаз. Приведены необходимый для выполнения расчетов обширный справочный материал, рекомендации по содержанию и оформлению отчетов. Исходя из известных рабочих рецептур, подобраны различные варианты индивидуальных заданий по курсовым работам. Предназначено для студентов бакалавриата и магистрантов, обучающихся по программе «Химическая технология материалов электроники, сенсорной аналитики и неорганических веществ», будет полезно аспирантам различных специальностей и преподавателям вузов.